假冒專利罪構成要件是哪些

構成要件如下：
1.本罪的客體爲複雜客體，它既侵害了國家專利管理部門的正常活動，也侵害了單位或者個人的專利權利。
2.主體爲一般主體。
3.主管方面處於故意。
4.本罪在客觀方面表現爲違反國家專利管理法規規定，在法律規定的有效期限內，假冒他人或單位已向國家專利主管部門提出申請並經審查獲得批准的專利，情節嚴重的行爲。
【法律依據】
《刑法》第216條，假冒他人專利，情節嚴重的，處三年以下有期徒刑或者拘役，並處或者單處罰金。